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    磁控溅射类

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    一、产品概述

    1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

    2、产品特点/用途

    ►必威体育中文可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;

    ►可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;

    ►必威官网登陆手机登录示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;

    ►单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

     

    二、技术参数

    型号
    JCP500
    真空腔室结构
    立式前开门结构,后置抽气系统
    真空腔室尺寸
    Φ500×H420mm
    加热温度
    室温~500℃
    溅射方式
    上下溅射可选
    旋转基片台
    Φ150mm
    膜厚不均匀性
    Φ100mm范围内≤±5.0%
    溅射靶/蒸发电极
    Φ3英寸磁控靶3支,兼容DC/MF/RF溅射
    工艺气体
    2~3路气体流量控制
    控制方式
    PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统
    占地面积
    (主机)L1900×W800×H1900mm
    总功率
    ≥10KW